主曝光是通过光聚合反应，在阴片透明部分下生成浮雕的过程。版材经过背曝光后，应立即进行主曝光处理。首先把版材正面朝上放在真空晒版台上，揭去表面的保护膜，将阴图片（或称负片或底片）乳剂面朝下放置在版材上，使胶片的乳剂面与版材正面贴合。然后用一个抗静电的刷子把版面和胶片清扫干净，将聚酯膜或醋酸纤维膜切成条状，覆盖于未被阴图片盖住的版材部位，再用一张塑料片把版材、胶片、聚酯条统统盖住，用软布抹平，将膜间的积气排出，抽真空（真空压力在0。
8Pa以上），开启光源，在抽真空状态下经紫外光（365nm)曝光处理。曝光部分的版材变硬，未曝光部分的版材保持原状。主曝光是制版过程中最重要的一个环节，它影响印版的许多重要性能参数，例如网点的大小、网点角度的钝锐、精细线条的粗细等。为了确定最佳的主曝光的时间，必须进行主曝光测试，以确定最短曝光时间、最长曝光时间和曝光宽容度。
主曝光时间主要取决于版材的感光性、版材类型及曝光设备光源的强弱和背曝光的时间（浮雕髙度），以及阴图片上图文面积的大小。曝光时间过短会使图文坡度太直，线条弯曲，小字、小点部分被洗掉；反之会糊版，字迹模糊。如果在同一张印版上有大、小字，粗、细线条，可视情况用黑膜遮盖分别曝光，细小部分就不会因冲洗丢失，确保印版质量。
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